年度	2010
全部作者	吳宗信,C.-T. Hung, M.-H. Hu, Y.-M. Chiu and J.-S. Wu*
論文名稱	Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition for Amorphous Silicon (a-Si) Thin Film Growth Using Parallel Fluid Modeling
會議名稱	7th International Conference on Flow Dynamics
地點	Sendai, Japan
會議期間	2010/11/01-10/03