年度	2011
全部作者	吳宗信,Y.-M. Chiu, C.-T. Hung, J.-S. Wu*, F.-N. Hwang
論文名稱	Development of Parallel Fluid Modeling for Low-temperature Inductively Coupled Plasma Source in Etching or Deposition Process
會議名稱	8th International Conference on Flow Dynamics
地點	Sendai, Japan
會議期間	2011/11/09-11