年度 | 2010 |
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全部作者 | 吳宗信,M.-H. Chiang, K.-C. Liao, I.-M. Lin, C.-C. Lu, H. Y. Huang, C.-L. Kuo, J.-S. Wu*, C.-C. Hsu and S.-H. Chen |
論文名稱 | Effects of Oxygen Addition and Treating Distance on Surface Cleaning of ITO Glass by a Non-Equilibrium Nitrogen Atmospheric-Pressure Jet |
期刊名稱 | Plasma Chemistry and Plasma Processing |
卷數 | Vol. 30 |
期數 | No. 5 |
頁碼 | 553-563 |
期刊等級 | SCI |
語言 | 英文 |
參考連結 | http://dx.doi.org/10.1007/s11090-010-9237-4 |