年度 | 2008 |
---|---|
全部作者 | 徐文祥,Cheng, P.L., Liao, C.I., Chien, C.C., Yang, C.L., Ting, S.F., Jeng, L.S., Huang, C.T., Cheng, Osbert, Tzou, S.F., and Hsu, W. |
論文名稱 | Effectiveness of Si thin buffer layer for selective SiGe epitaxial growth in recessed source and drain for pMOS |
期刊名稱 | Materials Chemistry and Physics |
卷數 | 107 |
期數 | 2-3 |
頁碼 | 471-475 |
期刊等級 | SCI |
總頁數 | 5 |
語言 | 英文 |