年度 | 2006 |
---|---|
全部作者 | 徐文祥,Cheng, P.L., Liao, C.I., Wu, H.R., Chen, Y.C., Chien, C.C., Yang, C.L., Tzou, S.F., Tang, J., Kodali, R., Washington, L., Cho, Y., Chang, V.C., Fu, T., and Hsu, W. |
論文名稱 | Effective surface treatments for selective epitaxial SiGe growth in locally strained pMOSFETs |
期刊名稱 | J. of Semiconductor Science and Technology |
期數 | 22 |
頁碼 | 140-143 |
期刊等級 | SCI,EI |
總頁數 | 4 |
語言 | 英文 |