年度	2014
全部作者	徐文祥,Huang, Y.-T. and Hsu, W.
論文名稱	A Simulation Model on Photoresist SU-8 Thickness after Development under Partial Exposure with Reflection Effect
期刊名稱	Japanese Journal of Applied Physics
卷數	53
頁碼	036505-
發表日期	2014-01-01
語言	英文