年度	2016
全部作者	洪紹剛,Shao-Kang Hunga, Kung-Hsuan Linb, Cheng-Lung Chena, Chen-Hsun Choua, You-Chuan Lina
作者類別	First Author
論文名稱	Total-internal-reflection-based photomask for large-area photolithography
期刊名稱	Optics & Laser Technology
卷數	79
頁碼	39-44
發表日期	2016-07-01
語言	英文