年度 | 2021 |
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全部作者 | 鍾添淦,Sung-Lin Tsai (本人指導之交大-東京工業大學雙聯碩士學生), Takuya Hoshii, Hitoshi Wakabayashi, Kazuo Tsutsui, Tien-Kan Chung, Edward Y. Chang, Kuniyuki Kakushima* |
論文名稱 | Room-Temperature Deposition of a Poling-Free Ferroelectric AlScN Film by Reactive Sputtering |
期刊名稱 | Applied Physics Letters (RF: 37/155=23.87%, Physics, Applied, IF: 3.597) |
卷數 | 8 |
期數 | 118 |
頁碼 | 082902- |
期刊等級 | SCI |
總頁數 | 4 |
發表日期 | 2021-02-25 |
語言 | 英文 |