年度 2021
全部作者 鍾添淦、Sung-Lin Tsai、Takuya Hoshii、Hitoshi Wakabayashi、Kazuo Tsutsui、Tien-Kan Chung、Edward Y. Chang、Kuniyuki Kakushima*
論文名稱 Room-Temperature Deposition of a Poling-Free Ferroelectric AlScN Film by Reactive Sputtering
期刊名稱 Applied Physics Letters (RF: 37/155=23.87%, Physics, Applied, IF: 3.597)
卷數 8
期數 118
起頁 082902
期刊等級 SCI
總頁數 4
發表日期 2021-02-25
語言 英文