年度 | 2005 |
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全部作者 | 徐瑞坤(2016年退休),K. L. Ou,S.Y. Shiou,Ray-Quen Hsu |
論文名稱 | "Barrier capability of Hf-N Films with Various Nitrogen Concentrations Against Copper Diffusion in Cu/Hf-N/n + -p Junction Diodes" |
期刊名稱 | Journal of The Electrochemical Society |
卷數 | Vol.152(2) |
頁碼 | 1-6 |
語言 | 中文 |