年度 | 2005 |
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全部作者 | 徐瑞坤(2016年退休),Keng-Liang Ou, Ray-Quan Hsu |
論文名稱 | “Comparative study of polycrystalline Ti, amorphous Ti and multi-amorphous Ti as a barrier film for Cu interconnect” |
期刊名稱 | Journal of Vacuum Science and Technology B(accepted) |
卷數 | vol.30 |
頁碼 | 229-235 |
語言 | 中文 |