年度	2014
計畫類別	研究計畫
計畫名稱	高深寬比乾式離子蝕刻尖角及凹角結構蝕刻補償技術應用於微光柵分光元件之研究
參與人	徐文祥
職稱/擔任之工作	Principle investigator
計畫期間	2014.08 ~ 2015.07
補助/委託或合作機構	科技部
語言	中文