年度 | 2011 |
---|---|
計畫類別 | 研究計畫 |
計畫名稱 | 以高分子作為感應偶合電漿反應離子蝕刻側壁保護層以製作單晶矽懸浮微結構之快速製程平台研發 |
參與人 | 徐文祥 |
職稱/擔任之工作 | 計劃主持人 |
計畫期間 | 2011.01 ~ 2012.01 |
補助/委託或合作機構 | 行政院國家科學委員會 |
記事 | {"en"=>nil, "zh_tw"=>nil} |
語言 | 中文 |
登入 陽明交大機械
年度 | 2011 |
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計畫類別 | 研究計畫 |
計畫名稱 | 以高分子作為感應偶合電漿反應離子蝕刻側壁保護層以製作單晶矽懸浮微結構之快速製程平台研發 |
參與人 | 徐文祥 |
職稱/擔任之工作 | 計劃主持人 |
計畫期間 | 2011.01 ~ 2012.01 |
補助/委託或合作機構 | 行政院國家科學委員會 |
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語言 | 中文 |