書報討論 2021/11/18: 半導體晶圓化學機械拋光製程與動態量測系統研究Dynamic Measurement System for CMP in Semiconductor Manufacturing

• 2021-11-18
• 機械系網管

Seminar Speaker: Dr. C-C. Arthur Chen (陳炤彰 特聘教授)
Title:  半導體晶圓化學機械拋光製程與動態量測系統研究Dynamic Measurement System for CMP in Semiconductor Manufacturing
Date: 2021/11/18 (Thursday) 3:30 pm – 5:20pm
Location: video conference (https://reurl.cc/q18jL3)

Outline:
 Brief of CMS/ITRI and PML/NTUST
 CMP for Wafer Processing & IC Fabrication
 3D Pad Topography for Pad Dressing in CMP
 Dynamic Pad Measurement System (DPMS)
 Integration of AI with In-situ DPMS
 Alpha Tool and Test Results
 Summary

Biography:
Deputy General Director, CMS/ITRI
Distinguished Professor, NTUST
Director, CMP Innovation Center, NTUST

陳炤彰博士1994美國威斯康辛大學麥迪遜分校畢業，1981和1985交大機械學士與碩士，國立台灣科技大學特聘教授，目前借調任職於工研院量測中心副執行長，曾擔任台科大機械系系主任及研發處副研發長、2013中美矽晶技術講座教授與台積電公司特聘研究員。
陳博士同時為社團法人台灣平坦化應用技術協會常務監事、台灣磨粒加工學會常務監事、國際製造工程學會(SME)理事和SEMI Taiwan產業標準委員

專業榮譽獎項曾獲得2018日本砥粒加工學會榮譽會士(Honorary Fellow, JSAT) 、2016國際半導體協會台灣分會 產業標準獎(SEMI Taiwan Standard Award) 、2015國際製造工程師學會 理事長獎 (SME President Award) 及2015-2019台灣科技大學傑出產學研究獎和2011&2015上銀科技機械碩士論文佳作獎與2014上銀科技機械碩士論文特別獎等。
陳博士長期致力研發精密晶圓加工製程與光學元件模造技術，另除專業學術期刊論文發表與期刊審查外，更與半導體與光電晶圓產業緊密結合，協助國內外相關廠商開發先進製程與檢測技術，進行相關產學研合作與技術轉移。